提供完整的半导体生产中水处理方案，中水回用设备方案。该系统采用膜生物反应器和三级处理系统，处理半导体中水，使其达到新的严格的环保标准，既有效地节省了有限的水资源，又减少了污水排放，具有良好的经济效益。
在半导体制造中，水主要来自车间的镀槽、清洗水等，其中含有的主要污染物有：Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸碱等。由于半导体工业废水排放量大，污染物种类多，成分复杂，尤其是溶解固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质等方面的差异，给半导体工业废水的常规处理带来挑战。
半导体中水设备的工艺优势：
三低一高一低。
该系统产生的淤泥量少，臭气产生量少，对能量的需求少，对化学药品的需求少或为零。
二是资源的利用。
经过该系统处理的再用水，满足工厂严格要求的再用水质量要求，可直接供应纯水系统或回用到生产线上。
三是物有所值。
该系统具有操作方便、抗冲击负荷、体积小、稳定性高、运行成本低等优点，通过了大量的成功案例。
上面就是国润环境今天想和大家分享的关于半导体中水处理设备的优势了，如果你也有需要可以随时联系我们。
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